극자외선 전용 반도체 ‘V1 라인’ 방문

이달 가동 시작… 7나노 이하 생산 돌입이재용 삼성전자 부회장이 20일 이달부터 가동을 시작한 극자외선(EUV) 전용 반도체 생산라인을 찾아 ‘시스템 반도체 1위’를 달성하겠다는 의지를 재차 다졌다.

이 부회장은 이날 반도체 사업을 이끄는 김기남 디바이스솔루션(DS) 부문장(부회장), 정은승 파운드리사업부장 등과 함께 경기 화성사업장 내 ‘V1 라인’을 방문해 임직원들을 격려했다. 이 부회장은 “지난해 우리는 이 자리에서 시스템 반도체 세계 1등의 비전을 심었고 오늘은 긴 여정의 첫 단추를 끼웠다”며 “이곳에서 만드는 작은 반도체에 인류사회 공헌이라는 꿈이 담길 수 있도록 도전을 멈추지 말자”고 강조했다.

V1 라인은 최근 7나노 이하 반도체 생산에 돌입했다. 삼성전자는 V1 라인에서 초미세 EUV 공정 기반 7나노부터 3나노 이하 차세대 파운드리(반도체 위탁 생산) 제품을 주력으로 생산한다는 계획이다. EUV 기술은 짧은 파장의 극자외선으로 세밀하게 회로를 그릴 수 있어 급증하는 정보를 처리할 수 있는 고성능 저전력 반도체를 만드는 데 필수적인 기술이다.

삼성전자는 올해 말까지 7나노 이하 제품 생산 규모가 전년보다 3배 이상 늘어날 것으로 내다보고 있다. 이 부회장이 올해 첫 경영 일정으로 1월 2일 화성사업장 내 반도체연구소를 찾은 데 이어 한 달여 만에 EUV 첫 전용라인을 찾은 것은 세계 시스템반도체 시장에서 1위를 거머쥐겠다는 의지를 대내외적으로 피력한 것으로 해석된다.

삼성전자는 지난해 4월 화성사업장에서 시스템 반도체에 2030년까지 133조원을 투자하고 1만 5000여명을 채용한다는 계획을 담은 ‘반도체 비전 2030’을 발표했다.

정서린 기자 rin@seoul.co.kr