삼성전자는 24일 시스템 반도체 분야 연구개발(R&D)에 73조원, 최첨단 생산 시설 확충에 60조원을 투자하고, R&D와 제조 전문인력 1만 5000명을 채용하는 것을 골자로 한 ‘반도체 비전 2030’을 발표했다. 삼성전자는 이날 발표가 “지난 1월 이재용 부회장이 밝힌 ‘2030년까지 비메모리도 세계 1위로 도약하겠다’는 목표를 달성하기 위한 로드맵”이라고 설명했다.
●42만명 간접고용 유발 효과
대규모 R&D 투자로 국내 시스템 반도체 연구 인력 양성에 기여하고, 시설을 확충해 국내 비메모리 반도체 생태계 전반의 발전을 견인한다는 게 삼성전자의 구상이다. 삼성전자는 계획이 실행되면 2030년까지 연평균 11조원 투자가 집행되고, 생산량이 증가하면서 42만명 간접 고용 유발 효과가 나타날 것으로 예상했다. 앞으로 경기 화성캠퍼스의 신규 극자외선(EUV) 생산라인을 활용해 생산량을 늘리고 국내 신규 라인 투자도 지속 추진한다는 계획이어서 국내 생산공장 추가 건립도 예상 가능하다.
●2030년까지 1만 5000명 채용 목표
삼성전자는 이와 함께 국내 팹리스(반도체 설계 전문업체) 고객들에게 자체 개발한 설계 관련 지식재산권(IP)을 지원하고, 설계·불량 분석 툴과 소프트웨어를 제공하기로 했다. 위탁생산 물량 기준을 낮춰 중소업체의 소량 생산을 지원하는 등 반도체 산업 생태계 구축을 선도한다는 전략이다. 이날 발표한 계획은 최근 정부가 강조하고 있는 비메모리 산업 육성과 궤를 같이한다. 문재인 대통령은 지난달 19일 국무회의에서 “메모리 반도체에 비해 상대적으로 경쟁력이 취약한 비메모리 반도체 분야 경쟁력을 높여 메모리 반도체 편중 현상을 완화하는 방안을 신속히 내놓기 바란다”고 주문했다.
김민석 기자 shiho@seoul.co.kr
2019-04-25 1면
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