삼성전자가 전 세계 최초로 10나노(㎚·10억분의1m) 로직 공정 양산을 시작했다고 17일 발표했다. 지난해 1월 모바일 AP(애플리케이션 프로세서)에서 14나노 공정 양산을 시작한 데 이어 전체 시스템 반도체 업계 최초로 10나노 공정 양산에 돌입했다.

14나노 1세대 양산 당시에 비해 10나노 1세대 공정에서 성능이 27% 개선됐고, 소비전력이 40% 절감됐으며, 웨이퍼당 칩 생산량이 약 30% 향상됐다고 삼성전자는 설명했다.

홍희경 기자 saloo@seoul.co.kr